1.爐體：

　　爐體為臥式圓柱形雙層水冷結(jié)構(gòu)，包括外殼、加熱室、前門(mén)和后爐門(mén)。外殼法蘭為不銹鋼，采用氬弧焊。前后門(mén)，前門(mén)裝載。爐門(mén)為全不銹鋼雙水冷橢圓頭結(jié)構(gòu)，進(jìn)料端爐門(mén)可自動(dòng)打開(kāi)和關(guān)閉，另一端爐缸鎖定，側(cè)門(mén)打開(kāi)形式。爐子_閥體配有氣動(dòng)接口和閥門(mén)。排氣閥。標(biāo)準(zhǔn)溫度接口。泄漏檢測(cè)接口等。配備寬帶高溫合金加熱器。寬帶加熱器和水冷爐壁配不銹鋼隔熱罩，厚度為0.5mm。爐門(mén)。爐法蘭采用橡膠密封圈，滿(mǎn)足高真空密封要求，密封性能穩(wěn)定可靠。

　　2.真空系統(tǒng)：

　　為了快速消除爐內(nèi)氣體和材料熱處理中氣體散發(fā)的大量雜質(zhì)，保持爐內(nèi)真空滿(mǎn)足工藝要求，設(shè)備配備了兩組KT-800-a擴(kuò)散泵單元，具有較強(qiáng)的抽氣能力。兩個(gè)擴(kuò)散泵均配備油蓋和溫度監(jiān)測(cè)，并配備加熱功率調(diào)節(jié)器，以防止油回流。同時(shí)，為防止真空泵油蒸汽污染工件，在KT-800A擴(kuò)散泵端口設(shè)置低溫氟利昂冷卻套，提高真空室的清潔度。

　　3.冷卻水系統(tǒng)及加熱室快速冷卻系統(tǒng)：

　　冷卻水系統(tǒng)包括配水器、水箱、閥門(mén)、管道和各種檢測(cè)元件。具有水壓、水流、水溫、缺水報(bào)警和聯(lián)鎖功能。同時(shí)，為了提高設(shè)備的效率，該設(shè)備配備了一個(gè)快速的氣體冷卻系統(tǒng)。快速冷卻系統(tǒng)由開(kāi)關(guān)、磁流體密封、快速冷卻風(fēng)扇、軟接管、接管部件組成。當(dāng)設(shè)備運(yùn)行到快速冷卻過(guò)程時(shí)，打開(kāi)氬氣閥，向爐內(nèi)充入高純氬氣。爐內(nèi)氣體壓力達(dá)到設(shè)定值后，設(shè)備快速冷卻風(fēng)扇啟動(dòng)，熱空氣進(jìn)入換熱器，換熱，氣體通過(guò)通風(fēng)管冷卻進(jìn)入爐內(nèi)，冷卻工件，循環(huán)。在此過(guò)程中，當(dāng)爐內(nèi)壓力低于70kpa時(shí)，自動(dòng)打開(kāi)氬氣閥，向爐內(nèi)添加氬氣。

　　4.電控系統(tǒng)：

　　電氣控制系統(tǒng)由工業(yè)控制機(jī)和工業(yè)控制組態(tài)軟件組成。數(shù)據(jù)采集卡。溫度控制器(歐洲)與通信輸入輸出模塊。PLC(帶相應(yīng)的I/O擴(kuò)展。通信接口)。真空計(jì)輸出控制。通信接口等。電氣控制系統(tǒng)由多個(gè)控制柜(制造商設(shè)計(jì))組成。控制柜面板具有真空系統(tǒng)和電源加熱系統(tǒng)的操作模擬圖。同時(shí)顯示加熱電流。溫度和擴(kuò)散泵電流。整個(gè)控制系統(tǒng)可自動(dòng)手動(dòng)切換，操作(控制)柜配備常用控制按鈕。加熱程序的調(diào)用和運(yùn)行可由上位機(jī)和主控溫度控制器操作。操作箱安裝在爐門(mén)附近，便于觀察和控制給料機(jī)構(gòu)。操作箱包括給料、給料、停止等按鈕和指示燈。主電路包括低壓保險(xiǎn)絲，保險(xiǎn)絲快。真空單元塊后，用小變壓器或功率模塊代替大磁調(diào)諧，減少占地面積，穩(wěn)定運(yùn)行。

　　在制作箱式真空爐時(shí)，應(yīng)注意以下三點(diǎn)，以確保生產(chǎn)出越來(lái)越好的產(chǎn)品。

　　1.一般采用一種方法計(jì)算功率，另一種或兩種方法進(jìn)行檢查和糾正。根據(jù)電阻爐的分區(qū)和功率分配，確定功率。選擇材料并計(jì)算參數(shù)，包括耐寒性、電源電壓、線(xiàn)徑和長(zhǎng)度。

　　2.箱式爐的理論計(jì)算主要參數(shù)為產(chǎn)量、溫度和加熱時(shí)間。經(jīng)驗(yàn)計(jì)算通常分為三類(lèi)：根據(jù)爐工作溫度的體積、表面積和計(jì)算能力，或根據(jù)爐或爐溫或同一爐輸出功率的類(lèi)型計(jì)算。

　　3.箱式爐的具體選擇應(yīng)考慮材料的抗氧化性、耐高溫性、耐滲碳性、工藝性和表面負(fù)荷。條狀加熱體表面的負(fù)荷大于絲狀加熱體，可增加50%。

　　采用真空爐加熱管，以石墨為立式真空電阻爐加熱元件，真空與氛圍，高溫?zé)�結(jié)，高工作溫度2100度，適用于真空熱處理材料、真空燒結(jié)、燒結(jié)氛圍。PID調(diào)節(jié)、自整定功能、晶體模塊化硅控制、高溫控制精度。相關(guān)的燒結(jié)材料包括陶瓷、金屬化合物、無(wú)機(jī)化合物、納米材料、熒光粉燒結(jié)和藍(lán)寶石退火，真空管燒結(jié)爐是大學(xué)實(shí)驗(yàn)室常用的設(shè)備。

　　碳管真空爐電氣設(shè)備配置系統(tǒng)：

　　1.碳管真空爐采用晶閘管和大電流互感器加熱電源。控制系統(tǒng)具有超壓、過(guò)流、斷水、高溫報(bào)警功能，并自動(dòng)切斷加熱。溫度控制采用熱電偶+紅外儀表(熱電偶有自動(dòng)退出裝置)調(diào)節(jié)功率控制器的輸出電壓，自動(dòng)實(shí)現(xiàn)爐溫加熱/冷卻控制。該系統(tǒng)還保留了手動(dòng)加熱功能，以便在必要時(shí)使用。

　　2.真空爐操作系統(tǒng)由溫度控制儀器和熱電偶+紅外儀器組成，控制溫度控制電路，直接控制加熱體上的電壓，實(shí)現(xiàn)溫度循環(huán)控制。主控儀器為日本導(dǎo)電品牌FP93系列，多段程控溫度;監(jiān)控儀器為508系列，溫度記錄在觸摸屏上。

　　3.電控柜為威圖標(biāo)準(zhǔn)柜，動(dòng)作控制由歐姆龍PLC實(shí)現(xiàn)，電氣聯(lián)鎖和系統(tǒng)保護(hù)功能可通過(guò)編程實(shí)現(xiàn)。PLC與觸摸屏通信，可在觸摸屏上設(shè)置動(dòng)作參數(shù)。

　　真空爐用途:真空爐及加熱粉制品，玻璃容器消毒設(shè)計(jì)。廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥、食品、輕工、化工、農(nóng)業(yè)、環(huán)保、檢測(cè)等領(lǐng)域。

　　真空爐特點(diǎn)：1。集成真空烤箱、泵等相關(guān)設(shè)備設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單，性能穩(wěn)定。

　　2.自動(dòng)抽真空，根據(jù)需要設(shè)置真空度;可預(yù)置多個(gè)程序，以確保多級(jí)重復(fù)抽水。實(shí)驗(yàn)繼續(xù)進(jìn)行，真空度降低，控制器將重新啟動(dòng)泵，顯示錯(cuò)誤，以確保真空度的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。

　　3.手動(dòng)和電動(dòng)雙空氣過(guò)濾器、排氣;停電時(shí)使用手動(dòng)閥操作簡(jiǎn)單。

　　4.內(nèi)部管道和空氣過(guò)濾器，以確保真空泵的長(zhǎng)使用壽命。

　　5.真空度顯示帶有數(shù)字儀器和儀器指針。